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新聞資訊
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等離子清洗機氣體怎么選擇
來源:
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作者:深圳金徠
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發(fā)布時間: 2021-06-26
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等離子清洗機由于其自身的特點在很多產品生產的過程中都有一席用武之地。在等離子清洗機工作清清洗的過程中，需要配合著不同的氣體，才能將等離子清洗機的清洗效果達到最好。
氣體的種類對等離子體的狀態(tài)起著決定性的作用，它直接影響了等離子體對高分子材料表面的改性方式和結果。等離子體表面處理一般采用非聚合性氣體，包括非反應性氣體和反應性氣體。
非反應性氣體指He、Ar等惰性氣體，這類氣體的等離子體作用于材料時，惰性氣體原子并不與高分子鏈結合，等離子體表面處理而是對表面進行刻蝕和產生自由基，但當材料接觸空氣后表面的自由基會繼續(xù)與空氣中的活性氣體發(fā)生反應，生成極性基團。等離子體表面處理反應性氣體指一些無機氣體或易揮發(fā)的無機化合物，常用的有Ar、O2、N2、CO2、H2O、NH3、SO2等，與非反應性的惰性氣體不同，這類反應性氣體的等離子體作用于材料時，氣體原子可以與高分子鏈結合，形成相關的官能團。
按氣體分成：最多使用的氣體之一就是惰性氣體氬氣（Ar），真空腔清洗過程中配合氬氣（Ar）往往可以有效得去除表面納米級污染物。經常應用在引線鍵合，芯片粘接銅引線框架，PBGA等工藝中。
如果想增強腐蝕效果，就請通入氧氣（O2）。通過配合氧氣（O2）在真空腔清洗，可有效的去除有機污染物，比如光刻膠等。通入氧氣（O2）比較多用于高精密的芯片粘接，光源清洗等工藝。
還有一些比較難去除的氧化物可利用氫氣（H2）配合清洗，條件是要在密閉性非常好的真空情況下使用。還有一些特殊氣體類似于四氟化碳（CF4），六氟化硫（SF6）等，蝕刻和去除有機物的效果會更加顯著。但這些氣體的使用前提是要有絕對耐腐蝕氣路和腔體結構，另外自己要戴好防護罩和手套才能工作。
最后要說的一種常用氣體就是氮氣（N2）。這種氣體主要是配合在線式等離子對材料表面活化和改性的應用。當然真空環(huán)境下也可以使用。氮氣（N2）是提高材料表面侵潤性的不二選擇。
現(xiàn)在等離子清洗機通常為2路氣體，有時候我們會嘗試讓氣體去組合比例配合清洗，來達到不一樣的效果！
上述所講解的就是，希望看完能夠對您有所幫助，如果您想要了解更多關于等離子清洗機的相關信息，歡迎繼續(xù)瀏覽深圳金徠網站！